應(yīng)用于先進制程的半導(dǎo)體工廠,有效解決散布在存儲環(huán)境(FOUP)內(nèi)的污染物。
聯(lián)系我們
產(chǎn)品功能
在晶圓生產(chǎn)過程中,等待進機臺運行的時間里,晶圓被存儲在FOUP內(nèi)部。隨著時間的推移,晶圓會釋放出一些對良率產(chǎn)生影響的危害物。同時,F(xiàn)OUP本身的材質(zhì)和環(huán)境也會釋放出水分子和其他危害物,進一步影響晶圓的良率。
N2 Purge System透過FOUP的進氣口,持續(xù)將氮氣導(dǎo)入FOUP內(nèi),氣體順著出氣口將FOUP內(nèi)部的分子污染物、水氣、氧氣排出FOUP,進而能有效的控制FOUP內(nèi)部環(huán)境,以符合晶圓存儲的標準。
產(chǎn)品特色
薄型設(shè)計,減少影響Fab走道高度
翻蓋設(shè)計,提高人員維護便利性,降低設(shè)備安裝維修安全風(fēng)險
無后臺命令,預(yù)設(shè)強制填充,避免產(chǎn)品損失
預(yù)置前清潔與定期自動噴嘴清潔,避免Particle掉落噴嘴,保持噴嘴潔凈度
產(chǎn)品效益
有效排除FOUP內(nèi)部的污染物
有效的控制FOUP內(nèi)部的氧濃度與濕度
抑制缺陷
提升產(chǎn)品良率
減少重工、提升Cycle time
減少Q-Time Over
? 2020-2024 無錫芯享信息科技有限公司 版權(quán)所有 備案號:蘇ICP備20003728號
蘇公網(wǎng)安備32021402002606
技術(shù)支持:蘇州網(wǎng)站建設(shè)